装置案内

1.プローブ顕微鏡



メーカー名:エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
機種名:Nanocute(汎用型SPM),E-sweep(環境制御型SPM)
主要性能:
●Nanocute
分解能:原子分解能(光てこ)水平0.2nm,垂直0.01nm(自己検知,DFMのみ)
走査範囲:20/1.5μm,100/15μm
最大試料サイズ:35mmφ,厚さ10mm
●E-sweep
分解能: 原子分解能
走査範囲:20/1.5μm,150/5μm
最大試料サイズ:25mmφ,厚さ10mm
装置利用範囲:

原材料等に微細加工を施した際の実態状況の確認,または微細加工製品の不良原因の分析等に活用できる装置です。部品または製品の仕上がり具合の確認,ならびに化合物の状態の分析・評価等に活用できます。

2.高速液体クロマトグラフ質量分析装置



メーカー名:株式会社島津製作所
機種名:LCMS-2020,DART-SVP(オプション)
主要性能:
質量範囲:m/z 10〜2,000
オプション:DART-SVP
装置利用範囲:

液状化合物の元素・質量分析に活用できます。液体試料の化学的特性を容易に分析することができるので,ガスクロマトグラフ質量分析装置と同様に,化学素材・部品およびバイオ産業等において,素材・中間材料・製品等の化学的な分析・評価に活用することができます。

3.ガスクロマトグラフ質量分析装置



メーカー名:株式会社島津製作所
機種名:GCMS-QP2010 Ultra
主要性能:
質量範囲:m/z 1.5〜1,090
装置利用範囲:

ガス状化合物の元素・質量分析に活用できます。ガス状生産物の化学的特性を容易に分析することができるので,高速液体クロマトグラフ質量分析装置と同様に,化学素材・部品およびバイオ産業において,素材・中間材料・製品等の化学的な分析・評価に活用することができます。

4.3Dプリンター(光造形装置)



メーカー名:株式会社ストラタシス・ジャパン
機種名:Connex 350
主要性能:
造形範囲:342×342×200mm
解像度:600×600×1,600dpi,600×300×1,600dpi
造形スピード:12mm/hour/strip,24mm/hour/strip
装置利用範囲:

この装置は,3DーCADで設計した図面データから,光硬化型の樹脂をインクジェット方式によって射出・造形して短時間かつ容易にプロトタイプモデルを作製することができます。そのため,製品開発のスピードアップに大きく貢献することが期待できます。このように設計した製品を樹脂モデルとして速やかに試作できるので,製品のデザイン評価や量産金型設計評価,さらにマーケティング調査等のサンプルモデルの作製に活用できます。

Staratasys(旧Objet)ホームページ http://jp.objet.com/

材料紹介ページ http://jp.objet.com/New_Material/

5.集束イオンビーム付走査型電子顕微鏡



メーカー名:日本電子株式会社
機種名:JIB4601F,JSM7600F
主要性能:
●JIB4601F
[FIB]
イオン源:Ga液体金属イオン源
倍率:×30,×100〜300,000
分解能:5nm(30kV時)
加工形状:矩形,ライン,スポット
[SEM]
倍率:×20〜×1,000,000
分解能:1.2nm(30kV 時),3.0nm(1kV時)
●JSM7600F
倍率:×25〜×1,000,000
分解能:1.5nm(1kV時)/GBmode,1.0nm(15kV時)
装置利用範囲:

電子顕微鏡として各種素材の表面を観察するだけでなく,集束イオンビームを使用して半導体・金属素材等の各種材料の微細な表面加工に利用することもできる装置です。エレクトロニクス分野の企業においては,半導体または精密部品等の試作・開発等ならびに製品の不良解析等に活用できます。

6.マスクレス露光装置



メーカー名:株式会社ナノシステムソリューションズ
機種名:DL-1000GS/MS
主要性能:
露光パワー:1W/c㎡以上
重ね合わせ精度:±1μm以内
位置決め精度:± 0.1μm(内蔵スケール繰り返し)
最高処理能力:50m㎡/min以上
オプション:グレースケールデータ作成ソフト
装置利用範囲:

この装置は,パソコン等で作成したパターンデータを,フォトマスクなしで直接基板上のフォトレジストに転写できます。半導体または金属材料等に微細な加工を施すことができるため,エレクトロニクス分野および機械加工分野の企業において,開発・試作向けの直接描画装置またはフォトマスクの製造装置等として利用することができます。

7.多目的X線回折装置



メーカー名:株式会社リガク
機種名:SmartLab
主要性能:
最大定格出力:9kW(45kV,200mA)
オプション:D/tex Ultra(1次元検出器),PILATUS(2次元検出器)
装置利用範囲:

半導体および金属材料等の結晶構造・欠陥構造を解析する装置です。各種オプションを装備することによって,応用分析の範囲を広げることができます。主な応用分析の事例としては,反射率測定による膜厚・配向測定,小角散乱測定による粒径空孔径分布測定およびマッピングによる試料各部のポイント測定等です。エレクトロニクス分野および金属材料分野において,製品等の品質・性能確認および不良解析等の利用が可能です。

8.恒温恒湿槽



メーカー名:エスペック株式会社
機種名:TBE-5H20A6PJ'J
主要性能:
温度制御範囲:−40〜+80℃
湿度制御範囲:10〜80%(at+10〜+80℃)
温度降下時間:+20〜−40℃まで180 分以内(無負荷・無試料)
温度上昇時間:+20〜+40℃まで60分以内(無負荷・無試料)
内寸法:IW 2,850×IH 2,100×ID 3,200mm
装置利用範囲:
槽内の温度および湿度を制御し,長時間にわたって一定の温度・湿度を保つことができる装置です。恒温恒湿試験,温湿度サイクル試験その他の基本的な環境試験を実施可能なので,部品・製品等の各種環境性能試験・信頼性能評価試験等に活用することができます。

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