研究所研究費採択課題詳細 2005年度

LSIデバイスプロセスにおけるCu配線表面に関する研究

研究課題名 LSIデバイスプロセスにおけるCu配線表面に関する研究
研究所名 科学技術研究所
研究種別 重点研究
研究概要  
研究者 所属 氏名
  理工学部 教授 植草新一郎
研究期間 2004.4~2006.3
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