研究所研究費採択課題詳細 2006年度

超LSIデバイスの液相中におけるCu配線表面処理メカニズムの解明

研究課題名 超LSIデバイスの液相中におけるCu配線表面処理メカニズムの解明
研究所名 科学技術研究所
研究種別 重点研究
研究概要  
研究者 所属 氏名
  理工学部 教授 植草新一郎
研究期間 2006.4~2009.3
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