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研究所研究費採択課題詳細 2008年度

超LSIデバイスの液相中におけるCu配線表面処理メカニズムの解明

研究課題名	超ＬＳＩデバイスの液相中におけるＣｕ配線表面処理メカニズムの解明
研究所名	科学技術研究所
研究種別	重点研究
研究概要
研究者	所属	職	氏名
	理工学部	教授	植草新一郎
研究期間	2006.4～2009.3
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