研究・知財戦略機構 学内フォーマット集
一般財団法人キヤノン財団 研究助成プログラム「産業基盤の創生」
| 掲載日 | 2014.05.12 |
| 名称 | 一般財団法人キヤノン財団 研究助成プログラム「産業基盤の創生」 |
| 団体名等 | 一般財団法人キヤノン財団 |
| 応募締切 | 2014.6.30（月）15時 |
| 応募方法 | 電子申請 |
| 学内応募エントリー | 2014.6.9（月） |
| 申請書学内提出期限 | 2014.6.20（金） |
| 募集概要 | 研究対象 日本の強い産業を更に強化する、あるいは新たな産業を起こすことによって経済発展を促すような科学技術分野にあって、独創的、先駆的、萌芽的な研究を募集します。分野としては、情報・通信、エレクトロニクス、機械・精密、オプティクス・フォトニクス、応用化学、応用物理、ナノテクノロジー・材料です。また以上の既存の分野だけでなく、医工連携などの融合分野や新興分野における新たな挑戦的研究も対象です。日本の経済発展には地域の活性化が不可欠です。キヤノン財団は特に地域の活性化に貢献する研究を重点的に支援します。地方に位置する大学等の研究を支援するとともに、中央に位置する大学等の研究で地域の活性化を目指す研究も支援します。 募集要項等詳細はこちらをご覧ください。 問い合わせフォーム こちら |
| 注意事項 | ・所属機関の上長から事前に承認を得る必要があります。 |
