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外部競争的研究資金・助成金募集詳細

キヤノン財団研究助成プログラム「産業基盤の創生」

 
掲載日 2012.05.24
キャンパス 生田
名称 キヤノン財団研究助成プログラム「産業基盤の創生」
団体名等 キヤノン財団
応募締切 2012年7月2日(月)
応募方法  電子申請と応募書類の提出(郵送必着)
※詳細は団体HPから。
※所属長の承諾書が必要。(共同研究者も。)
学内応募エントリー  2012.6.11
申請書学内提出期限  2012.6.20 ※承諾書が必要のため厳守。
応募要項
 【募集対象分野・研究】
日本の強い産業を更に強化し、あるいは新たな産業を起こすことによって経済発展を促すような科学技術分野にあって、独創的、先駆的、萌芽的な研究を支援します。例えば、情報・通信、エレクトロニクス、機械・精密、オプティクス・フォトニクス、応用化学、応用物理、ナノテクノロジー・材料などの既存の分野だけでなく、医工連携などの融合分野や新興分野における新たな挑戦的研究を歓迎します。

【助成金額】
1件あたり助成期間中の研究費2,000万円以下

【研究期間】
1年間または2年間。
2013年4月より開始し、助成期間が2年の場合は研究計画に沿って毎年度支払われます。
注意事項  直接研究に関係する経費に限定。