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1.走査型プローブ顕微鏡



メーカー エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
機種 Nanocute(汎用型SPM,E-sweep(環境制御型SPM
主要性能
Nanocute
分解能:<光てこ>原子分解能 <DFM>水平0.2nm,垂直0.01nm
走査範囲:20/1.5μm100/15μm
最大試料サイズ:35mmφ,厚さ10mm
E-sweep
分解能: 原子分解能
走査範囲:20/1.5μm150/5μm
最大試料サイズ:25mmφ,厚さ10mm
装置利用範囲
原材料等に微細加工を施した際の実態状況の確認,または微細加工製品の不良原因の分析等に活用できる装置です。部品または製品の仕上がり具合,ならびに化合物の状態の分析・評価等に活用できます。

2.高速液体クロマトグラフ質量分析装置



メーカー 株式会社島津製作所
機種 LCMS-2020,DART-SVP(オプション)
主要性能
質量範囲:m/z 10〜2,000
オプション:DART-SVP
装置利用範囲
試料中に含まれる揮発性~難揮発性物質の定性・定量分析が行える装置です。ガスクロマトグラフでは測定困難な難揮発性物質の測定が可能です。医薬品食品,環境分析など幅広い分野で活用されています。
利用条件
・カラム,測定条件は利用者様がご準備ください。
・当センターに化学実験室はございませんので,前処理済の試料をバイヤル瓶に入れ,測定できる状態のものをご準備ください。

3.ガスクロマトグラフ質量分析装置



メーカー 株式会社島津製作所
機種 GCMS-QP2010 Ultra
主要性能
質量範囲:m/z 1.51,090
装置利用範囲
試料中に含まれる揮発性物質を多成分同時に定性・定量分析ができる装置です。高速液体クロマトグラフでは困難な微量分析が可能です。高速液体クロマトグラフ同様、化学分析において広く活用されている装置です。
利用条件
・カラム,測定条件は利用者様がご準備ください。
・当センターに化学実験室はございませんので,前処理済の試料をバイヤル瓶に入れ,測定できる状態のものをご準備ください。

4.3Dプリンター(光造形装置)【故障中につき別途お問い合わせください】



メーカー 株式会社ストラタシス・ジャパン
機種 Connex 350
主要性能
造形範囲:342×342×200mm
解像度:600×300×1,600dpi(標準設定),600×600×1,600dpi(ハイクオリティモード)
造形スピード:12mm/hour/strip(標準設定),24mm/hour/strip(ハイスピードモード)
装置利用範囲
この装置は,3DーCADで設計した図面データから,光硬化型の樹脂をインクジェット方式によって射出・造形して容易にプロトタイプモデルを作製することができます。設計した製品を樹脂モデルとして速やかに試作できるので,製品のデザイン評価や量産金型設計評価,さらにマーケティング調査等のサンプルモデルの作製に活用できます。
※現在の標準設定ではVeroWhite のみ使用可能です。他の樹脂での造形をご希望の場合は別途お問い合わせください。

5.集束イオンビーム付走査型電子顕微鏡



メーカー 日本電子株式会社
機種 JIB4601F,JSM7600F
主要性能
●JIB4601F
[FIB]
イオン源:Ga液体金属イオン源
倍率:×100〜×300,000
分解能:5nm(30kV時)
加工形状:矩形,ライン,スポット
[SEM]
倍率:×20〜×1,000,000
分解能:1.2nm(30kV 時),3.0nm(1kV時)
[オプション]
EDS、EBSD
●JSM7600F
倍率:×25〜×1,000,000
分解能:1.5nm(1kV時)/GBmode,1.0nm(15kV時)
[オプション]
EDS、CL
装置利用範囲
電子顕微鏡として各種素材の表面を観察するだけでなく,集束イオンビームを使用して半導体・金属素材等の各種材料の微細な表面加工に利用することもできる装置です。またEDS,EBSD,CLの各種オプションにより,元素分析や結晶方位等の測定も可能です。エレクトロニクス分野の企業においては,半導体または精密部品等の試作・開発等ならびに製品の不良解析等に活用できます。

6.マスクレス露光装置



メーカー 株式会社ナノシステムソリューションズ
機種 DL-1000GS/MS
主要性能
露光パワー:1W/c㎡以上
重ね合わせ精度:±1μm以内
位置決め精度:± 0.1μm(内蔵スケール繰り返し)
最高処理能力:50m㎡/min以上
オプション:グレースケールデータ作成ソフト
装置利用範囲

この装置は,パソコン等で作成したパターンデータを,フォトマスクなしで直接基板上のフォトレジストに転写できます。半導体または金属材料等に微細な加工を施すことができるため,エレクトロニクス分野および機械加工分野の企業において,開発・試作向けの直接描画装置またはフォトマスクの製造装置等として利用することができます。

7.多目的X線回折装置



メーカー 株式会社リガク
機種 SmartLab
主要性能
最大定格出力:9kW45kV,200mA
オプション:D/tex Ultra1次元検出器)
装置利用範囲
半導体や金属材料等の結晶構造・欠陥構造の解析,粉末試料の構成成分の同定や結晶化度の解析ができる装置です。各種オプションによる応用分析の事例としては,逆格子マップ測定や高分解能ロッキングカーブ測定等が挙げられます。元素分析ではなく化合物として解析でき,また同じ化学式でも結晶構造が異なる多形区別ができることが特徴です。半導体を始め幅広い分野の品質管理に活用されている装置です。

8.恒温恒湿槽



メーカー エスペック株式会社
機種 TBE-5H20A6PJ'J
主要性能
温度制御範囲:−40〜+80℃
湿度制御範囲:10〜80%(at+10〜+80℃)
温度降下時間:+20〜−40℃まで180 分以内(無負荷・無試料)
温度上昇時間:+20〜+80℃まで60分以内(無負荷・無試料)
内寸法:IW 2,850×IH 2,100×ID 3,200mm
装置利用範囲
槽内の温度および湿度を制御し,長時間にわたって一定の温度・湿度を保つことができる装置です。恒温恒湿試験,温湿度サイクル試験その他の基本的な環境試験を実施可能なので,部品・製品等の各種環境性能試験・信頼性能評価試験等に活用することができます。
お問い合わせ先

明治大学研究推進部 生田研究知財事務室

地域産学連携研究センター
〒214-0034 神奈川県川崎市多摩区三田2-3227
TEL:044-934-7250 FAX:044-934-7252

問い合わせ・予約受付時間
平日9:00~17:00、土曜日9:00~12:00
※いずれも祝日・大学の休業日を除く

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